| 发明名称 | 垂直磁记录介质的基底、其制造方法以及垂直磁记录介质 | ||
| 摘要 | 提供一种用于垂直磁记录介质2的基底，具有软磁性基底层5。在该软磁性基底层5上形成抗蚀层6。优选抗蚀层6形成为完全覆盖住全部软磁性基底层5。 | ||
| 申请公布号 | CN101006497A | 申请公布日期 | 2007.07.25 |
| 申请号 | CN200580028148.5 | 申请日期 | 2005.08.25 |
| 申请人 | 昭和电工株式会社 | 发明人 | 大森将弘 |
| 分类号 | G11B5/738(2006.01);G11B5/84(2006.01);G11B5/667(2006.01);G11B5/858(2006.01) | 主分类号 | G11B5/738(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 杨晓光;李峥 |
| 主权项 | 1.一种用于垂直磁记录介质的基底，包括：软磁性基底层；和用于防止所述软磁性基底层腐蚀的抗蚀层，其中所述抗蚀层形成在所述软磁性基底层上。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||