发明名称 正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法
摘要 一种正型光致抗蚀剂组合物,含有(A)聚苯乙烯换算重均分子量(Mw)在20000以上并且2核体含量在4%以下的碱溶性酚醛清漆树脂、(B)分子量在1000以下的含酚性羟基化合物、(C)含萘醌二叠氮基化合物、以及(D)有机溶剂。根据本发明可以提供能够防止高温后烘干工序中的抗蚀图案的变形的同时能够使高温加热时的脱气量减少的正型光致抗蚀剂组合物。
申请公布号 CN1324401C 申请公布日期 2007.07.04
申请号 CN200410005582.9 申请日期 2004.02.18
申请人 东京应化工业株式会社 发明人 森尾公隆;青木知三郎;加藤哲也;中岛哲矢
分类号 G03F7/023(2006.01) 主分类号 G03F7/023(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 朱丹
主权项 1.一种正型光致抗蚀剂组合物,其特征在于,含有下述的(A)、(B)、(C)及(D)成分,(A)由凝胶渗透色谱法所测定的聚苯乙烯换算重均分子量为20000-50000并且2核体含量为0.1-4%的碱溶性酚醛清漆树脂、(B)相对于100质量份所述碱溶性酚醛清漆树脂(A)的含量为1~25质量份的分子量在1000以下的含酚性羟基化合物、(C)相对于所述碱溶性酚醛清漆树脂(A)和所述含酚性羟基化合物(B)的总量100质量份的含量为15~40质量份的含萘醌二叠氮基化合物、以及(D)使所述(A)~(C)成分的总量相对于所述组合物的总质量达到30质量%以下的量的有机溶剂,其中,所述(C)成分为,下式(II)所示的含酚性羟基化合物和1,2-萘醌二叠氮基磺酸化合物的酯化反应生成物(C1)以及下式(III)所示的含酚性羟基化合物和1,2-萘醌二叠氮基磺酸化合物的酯化反应生成物(C2)中的至少一种,<img file="C2004100055820002C1.GIF" wi="1519" he="1002" />式(III)中,R<sup>1</sup>~R<sup>8</sup>各自独立地表示氢原子、卤素原子、碳原子数1~6的烷基、碳原子数1~6的烷氧基、或碳原子数3~6的环烷基;R<sup>9</sup>~R<sup>11</sup>各自独立地表示氢原子或碳原子数1~6的烷基;Q为氢原子、碳原子数1~6的烷基、或下述化学式(IV)所示的残基,或者Q为和R<sup>9</sup>结合并与R<sup>9</sup>以及Q和R<sup>9</sup>之间的碳原子一起形成碳原子数3~6的环烷基的基团;a、b表示1~3的整数;d表示0~3的整数;n表示0~3的整数,<img file="C2004100055820003C1.GIF" wi="704" he="301" />式(IV)中,R<sup>12</sup>及R<sup>13</sup>各自独立地表示氢原子、卤素原子、碳原子数1~6的烷基、碳原子数1~6的烷氧基、或碳原子数3~6的环烷基;c表示1~3的整数。
地址 日本神奈川县