用于形成膜之涂覆流体及其膜与形成膜之方法

摘要

提供一种用于形成膜之涂覆流体，其在最高70℃之低温下，能藉热处理充分地固化以形成具有优越耐磨性及优越储存安定性的固化膜；一种得自该用于形成膜之涂覆流体的膜；以及形成该膜之方法。一种用于形成膜之涂覆流体，其包含藉着缩合聚合作为必要成份之式(1)之矽化合物所得之聚矽氧烷(A)，及式(2)之化合物(B)：Si(OR1)4 (1)其中R1是C1-5烃基， R2、R3、R4及R5之每一者彼此独立是氢原子或C1-12有机基。