| 发明名称 | 基板处理系统和方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种在能够单层式或双层式的一个以上基板处理腔室混合存在的多腔室型基板处理系统中提高生产率的基板处理装置和方法。根据处理腔室的种类和基板的处理，使用从两个搬送臂同时进入和退出进行基板搬入搬出的第一顺序、以两个搬送臂在互相不同的时刻进入进行搬入搬出的第三顺序和在同时进行搬入和搬出基板的第一和第三顺序之间的第二顺序中选取的最适宜的基板搬入搬出方法。 | ||
| 申请公布号 | CN1937201A | 申请公布日期 | 2007.03.28 |
| 申请号 | CN200610154362.1 | 申请日期 | 2006.09.22 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 白岩裕嗣 |
| 分类号 | H01L21/677(2006.01);H01L21/00(2006.01);C23C14/56(2006.01);C23C16/54(2006.01);B65G49/05(2006.01);B65G49/06(2006.01);B65G49/07(2006.01) | 主分类号 | H01L21/677(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 1.一种基板处理系统，其特征在于，包括：对基板进行处理的处理腔室和将基板搬入搬出该处理腔室的搬送装置，其中，所述搬送装置包括至少两个保持基板的臂，其构成为能够在使这两个臂同时进入所述处理腔室内的状态和在互相不同的时刻进入所述处理腔室内的状态之间进行切换。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||