发明名称 一种尼龙MXD6/纳米蒙脱土复合材料的制备方法
摘要 一种制取尼龙MXD6/纳米蒙脱土复合材料的水溶液法工艺过程。这种复合材料是用下列原料进行原位缩聚反应制取的:至少含有80mole%己二酸的二羧酸;至少含有80mole%苯二甲胺的胺化物;至少在一种次(亚)磷酸化合物(如次磷酸钠、亚磷酸二苯酯、亚磷酸三苯酯等)和弱酸的碱金属化合物存在下进行缩聚反应,次磷酸化合物的含量为己二酸和苯二甲胺总重量的0.05%-0.8%;至少含有重量份数为0.1-10%有机化纳米蒙脱土。反应在惰性气体保护下进行,先通过水溶液法制得纳米蒙脱土尼龙MXD6盐,再在一定压力和温度下进行原位缩聚合,合成得到尼龙MXD6/纳米蒙脱土复合材料。
申请公布号 CN1931921A 申请公布日期 2007.03.21
申请号 CN200610053171.6 申请日期 2006.08.28
申请人 浙江阳光纳米科技有限公司 发明人 祝佳才;应继儒;张进
分类号 C08L77/00(2006.01);C08K3/34(2006.01);C08G69/28(2006.01) 主分类号 C08L77/00(2006.01)
代理机构 代理人
主权项 1.一种尼龙MXD6/纳米蒙脱土复合材料的制备方法,其特征在于采用原位缩聚的生产方法得到。
地址 317100浙江省三门县工业园区