| 发明名称 | 曝光机器及曝光系统 | ||
| 摘要 | 一种曝光机器，用于对至少一第一液晶显示面板及一第二液晶显示面板进行曝光，包括一本体及至少一第一曝光源及一第二曝光源。本体具有至少一第一平台及一第二平台，第二平台位于第一平台之下，第一液晶显示面板及第二液晶显示面板分别置放于第一平台及第二平台上。第一曝光源及第二曝光源分别设置于第一平台及第二平台之上，用以分别曝光第一液晶显示面板及第二液晶显示面板。 | ||
| 申请公布号 | CN1869780A | 申请公布日期 | 2006.11.29 |
| 申请号 | CN200610094097.2 | 申请日期 | 2006.06.22 |
| 申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 林朝成;郑德胜;白家瑄;谢忠憬;丘至和;杉浦规生;廖唯伦;连水池 |
| 分类号 | G02F1/1333(2006.01);G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | G02F1/1333(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
| 主权项 | 1.一种曝光机器，用于对至少一第一液晶显示面板及一第二液晶显示面板进行曝光，包括：本体，具有至少一第一平台及一第二平台，该第二平台位于该第一平台之下，该第一液晶显示面板及该第二液晶显示面板分别置放于该第一平台及该第二平台上；以及至少一第一曝光源及一第二曝光源，分别设置于该第一平台及该第二平台之上，用以分别曝光该第一液晶显示面板及该第二液晶显示面板。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹市 | ||