具有二维对准测量装置的光刻设备和二维对准测量方法

摘要

光刻设备具有用来移动带有标记(M3)的对象的执行器，所述标记具有多个排列成行和列的结构(19)。对准装置包括光源、光学系统和检测器。光源和光学系统产生在与列平行的第一方向延伸的第一斑点部分(24x)和在与行平行的第二方向延伸的第二斑点部分(24y)。光学系统把对准辐射束射向标记(M3)，接收从标记(M3)返回的对准辐射，并把对准辐射传送给检测器。检测器把对准信号传送给处理器，处理器根据对准信号计算标记(M3)的二维位置。

主权项

1.一种光刻设备，它包括：●对准装置，它包括光源、光学系统和检测器，所述光源设置成产生光束；所述光学系统设置成接收光束，产生具有对准辐射束斑点的对准辐射束，所述辐射束斑点具有在第一方向延伸的第一对准辐射束斑点部分和在与所述第一方向垂直的第二方向延伸的第二对准辐射束斑点部分，并把所述对准辐射束射向对象上至少一个标记，所述至少一个标记具有多个排列成行和列的结构，接收从所述至少一个标记返回的对准辐射并将所述对准辐射发送给所述检测器；所述检测器设置成根据所述对准辐射产生对准信号；●执行器，用于在所述对准辐射束和所述对象之间产生相对移动；●处理器，它连接到所述执行器和所述检测器，并设置成：○控制所述执行器，使得所述至少一个标记的所述列结构和所述至少一个标记的所述行结构分别接收所述第一对准辐射束斑点部分和所述第二对准辐射束斑点部分；○接收来自所述检测器的所述对准信号；○根据所述对准信号计算所述至少一个标记的二维位置。