组分渐变薄膜的蒸发装置及方法

摘要

本发明公开了一种组分渐变薄膜的蒸发装置及方法，涉及组分渐变薄膜的蒸发沉积的技术领域；它包括蒸发源、能够旋转和加热的基片台、被蒸发的基片和薄膜蒸发速率监控仪，其中，蒸发源为一个以上的蒸发源，薄膜蒸发速率监控仪为一个以上的与蒸发源相对应的薄膜蒸发速率监控仪，在各蒸发源之间设置有中间隔板；蒸发源包括普通的热蒸发、电子束蒸发、激光蒸发等；各个蒸发源蒸发的变化速率可以是连续的，也可以是阶梯状变化的；本发明的组分渐变薄膜的蒸发装置及方法，技术相对简单，适用性广，不需要增加附加设备；操作灵活方便，只要更换被蒸发材料即可；与溅射法相比，组分变化截面可任意控制，整个工艺过程容易控制。

主权项

1、一种组分渐变薄膜的蒸发装置，包括蒸发源、能够旋转和加热的基片台(14)、被蒸发的基片(15)和薄膜蒸发速率监控仪，其特征在于，所述的蒸发源为一个以上的蒸发源(11、12)，所述的薄膜蒸发速率监控仪为与蒸发源相对应的一个以上的薄膜蒸发速率监控仪(16、17)，在各蒸发源之间设置有中间隔板(13)。