| 主权项 |
1.一种铜电解液,系含有作为添加剂之有机硫化合 物及藉由每分子具有一个或多个环氧基之化合物 与胺化合物之加成反应,接着氮之成季硷反应所获 得之具有下述通式(1)所示之特定架构之四级胺化 合物 (通式(1)中R1及R2各表示选自由羟基烷基、醚基、 芳香基、芳香基取代之烷基、不饱和烃基及烷基 所组成组群之基团,R3表示苯甲基、烯丙基或烷基, A表示环氧化合物残基,X1-表示Cl-、Br-或CH3SO4-,以及 n表示1或更大之整数)。 2.如申请专利范围第1项之铜电解液,其中具有特定 架构之四级胺化合物的环氧化合物残基A具有直链 醚键合。 3.如申请专利范围第1项之铜电解液,其中具有特定 架构之四级胺化合物系为下述通式(2)至(9)所示之 化合物之一, (n:1至3之整数) (通式(2)至(9)中,R1及R2各表示选自由羟基烷基、醚 基、芳香基、芳香基取代之烷基、不饱和烃基及 烷基所组成组群之基团,R3表示苯甲基、烯丙基或 具有1至5个碳原子之烷基,及X1-表示Cl-、Br-或CH3SO4- )。 4.如申请专利范围第2项之铜电解液,其中具有特定 架构之四级胺化合物系为下述通式(2)至(9)所示之 化合物之一, (n:1至3之整数) (通式(2)至(9)中,R1又R2各表示选自由羟基烷基、醚 基、芳香基、芳香基取代之烷基、不饱和烃基及 烷基所组成组群之基团,R3表示苯甲基、烯丙基或 具有1至5个碳原子之烷基,及X1-表示Cl-、Br-或CH3SO-4 )。 5.如申请专利范围第1项之铜电解液,其特征在于有 机硫化合物系为下述通式(10)或(11)所示之化合物 X-R1-(S)n-R2-Y (10) R4-S-R3-SO3Z (11) (通式(10)及(11)中,R1、R2及R3各表示具有1至8个碳原 子之烷撑基,R4表示选自由氢, 所组成组群之基团,X表示选自由磺酸基、膦酸基, 及磺酸或膦酸-硷金属盐基或铵盐基所组成组群之 基团,Y表示选自由磺酸基、膦酸基,及磺酸或膦酸- 硷金属盐基所组成组群之基团,Z表示氢、硷金属, 及n为2或3)。 6.一种电解铜箔,系使用如申请专利范围第1至5项 中任一项之铜电解液所制造者。 7.一种铜包层-层合板,系使用如申请专利范围第6 项之电解铜箔所形成者。 图式简单说明: 第1图系显示具有特定结构之四级胺化合物之合成 例所获得之化合物的FT-IR光谱。 第2图系显示具有特定结构之四级胺化合物之合成 例所获得之化合物的1H-NMR光谱。 第3图系显示具有特定结构之四级胺化合物之合成 例所获得之化合物的13C-NMR光谱。 第4图为显示电解铜箔制造装置之一实例的图式。 |
