发明名称 | 保护接触垫下元件的网目图案介层及结构 | ||
摘要 | 一种保护接触垫下元件的网目图案介层及结构,该介层为连接上下相邻二层接触垫的网目状介层,形成于半导体基板上方,该网目状介层分为网格架构及网格中空部位两部分,其中网格中空部位为介电层材质,而网格架构为金属导电层;本发明还包括一种保护接触垫下元件的结构,至少包含:一已完成集成电路元件部分的晶圆,该晶圆并已包含复数个金属内连线层;及最顶上的相邻上下二层接触垫以一金属网目状介层连接,该上下二层接触垫下方至少有一层包含金属内连线及内连线介电层;利用本发明的网目状介层,接触垫下方的半导体基板上可允许包含ESD保护电路或/及集成电路元件,但却可避免传统上因介层阵列,强度不足导致元件损坏的问题。 | ||
申请公布号 | CN1230900C | 申请公布日期 | 2005.12.07 |
申请号 | CN02105941.1 | 申请日期 | 2002.04.09 |
申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 周国裕;翁烔城 |
分类号 | H01L23/52;H01L23/50 | 主分类号 | H01L23/52 |
代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 李强 |
主权项 | 1.一种保护接触垫下元件的网目图案介层,其特征是:该介层为连接上下相邻二层接触垫的网目状介层,形成于半导体基板上方,该网目状介层分为网格架构及网格中空部位两部分,其中网格中空部位为介电层材质,而网格架构为金属导电层。 | ||
地址 | 台湾省新竹科学工业园区 |