发明名称 保护接触垫下元件的网目图案介层及结构
摘要 一种保护接触垫下元件的网目图案介层及结构,该介层为连接上下相邻二层接触垫的网目状介层,形成于半导体基板上方,该网目状介层分为网格架构及网格中空部位两部分,其中网格中空部位为介电层材质,而网格架构为金属导电层;本发明还包括一种保护接触垫下元件的结构,至少包含:一已完成集成电路元件部分的晶圆,该晶圆并已包含复数个金属内连线层;及最顶上的相邻上下二层接触垫以一金属网目状介层连接,该上下二层接触垫下方至少有一层包含金属内连线及内连线介电层;利用本发明的网目状介层,接触垫下方的半导体基板上可允许包含ESD保护电路或/及集成电路元件,但却可避免传统上因介层阵列,强度不足导致元件损坏的问题。
申请公布号 CN1230900C 申请公布日期 2005.12.07
申请号 CN02105941.1 申请日期 2002.04.09
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 周国裕;翁烔城
分类号 H01L23/52;H01L23/50 主分类号 H01L23/52
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 代理人 李强
主权项 1.一种保护接触垫下元件的网目图案介层,其特征是:该介层为连接上下相邻二层接触垫的网目状介层,形成于半导体基板上方,该网目状介层分为网格架构及网格中空部位两部分,其中网格中空部位为介电层材质,而网格架构为金属导电层。
地址 台湾省新竹科学工业园区