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发明名称
双波长半导体雷射装置及其制法
摘要
本发明揭示一种双波长半导体雷射装置。该双波长半导体雷射装置包括具有第一及第二区域彼此分隔于其上之第一传导材料基板、形成于该第一区域之上之第一半导体雷射二极体、形成于该第一传导材料基板之该第二区域之上且包括与该第一半导体雷射二极体相同之层膜之非主动层、形成于该非主动层之上之第二半导体雷射二极体,以及形成在至少于该第一及第二半导体雷射二极体之间之侧向传导区域。
申请公布号
TW200533023
申请公布日期
2005.10.01
申请号
TW093129373
申请日期
2004.09.29
申请人
三星电机股份有限公司
发明人
高宗万
分类号
H01S3/0941
主分类号
H01S3/0941
代理机构
代理人
洪武雄;陈昭诚
主权项
地址
韩国
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