发明名称 雷射钻孔用铜箔
摘要 [课题]提供一种铜箔,其于制造印刷电路板之际,藉着铜箔表面的改善,使雷射加工容易,适合用以形成小孔径的层间连接孔。[解决手段]一种雷射钻孔用铜箔,系使用雷射作钻孔加工;其特征在于,对于该铜箔之至少雷射入射面施以含有铜之至少1种之金属之电镀,于该面形成0.01~3μm的粒子层。
申请公布号 TWI238027 申请公布日期 2005.08.11
申请号 TW090107469 申请日期 2001.03.29
申请人 日材料股份有限公司 发明人 本胜;北野 皓嗣
分类号 H05K1/09;C25D7/06 主分类号 H05K1/09
代理机构 代理人 林镒珠 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 1.一种雷射钻孔用铜箔,系使用雷射作钻孔加工;其 特征在于,对于该铜箔之至少雷射入射面施以铜电 镀或是铜与择自Ni、Co、Sn、Zn、In中至少1种所构 成之合金之电镀,以于该面形成0.01~3m的粒子层 。 2.如申请专利范围第1项之雷射钻孔用铜箔,其中, 于上述以金属电镀形成有粒子层的面,在不改变其 表面形状下,进一步形成被覆皮膜。 图式简单说明: 图1系实施例1之形成粒子层的粗化面的显微镜相 片。 图2系比较例1之电解铜箔表面的显微镜相片。 图3系比较例2之形成粒子层的粗化面的显微镜相 片。
地址 日本