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经营范围
发明名称
METHOD FOR FABRICATING GATE AND SILICIDE OF SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号
KR100497194(B1)
申请公布日期
2005.06.28
申请号
KR20020081372
申请日期
2002.12.18
申请人
发明人
分类号
H01L21/24;(IPC1-7):H01L21/24
主分类号
H01L21/24
代理机构
代理人
主权项
地址
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