发明名称 | 流体轴承模块 | ||
摘要 | 本发明公开了一种流体轴承模块,包括有轴承座、轴承、挠曲组件及挡压组件,其中轴承座内部有容置空间,且一侧具有与其连通的开口,轴承设置于容置空间,且为中空,可选择地供转子部的轴心穿设,并有润滑介质填于轴承及转子部间,挠曲组件凸设于轴承座的开口侧,可朝向容置空间挠曲,并卡固于轴心的凹槽,挡压组件凸设于轴承座的开口侧,并邻近开口,以限制挠曲组件朝向开口挠曲,防止轴心脱离,且挠曲组件及挡压组件形成迷宫走道,而防止润滑介质流至外部。 | ||
申请公布号 | CN1601132A | 申请公布日期 | 2005.03.30 |
申请号 | CN03160037.9 | 申请日期 | 2003.09.23 |
申请人 | 财团法人工业技术研究院 | 发明人 | 施文章;黄晋兴;张裕修 |
分类号 | F16C32/06 | 主分类号 | F16C32/06 |
代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人 | 梁挥;常大军 |
主权项 | 1、一种流体轴承模块,其特征在于,包括有:一轴承座,可选择地装设于一定子部,该轴承座内部有一容置空间,且一侧具有连通该容置空间的一开口;一轴承,设置于该轴承座的该容置空间,且为中空,可选择地供一转子部的一轴心穿设,并有润滑介质填于该轴承及该转子部之间,从而该转子部以可转动的方式连接于该定子部;一挠曲组件,凸设于该轴承座的该开口侧,并卡固于该轴心的一凹槽,该挠曲组件可朝向或反向该容置空间挠曲;及一挡压组件,凸设于该轴承座的该开口侧,并邻近该开口,其内径略大于该挠曲组件的内径,以限制该挠曲组件朝向该开口挠曲,防止该轴心脱离,且该挠曲组件及该挡压组件形成迷宫走道,而防止该润滑介质流至外部。 | ||
地址 | 台湾省新竹 |