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发明名称 Lithographic apparatus and device manufacturing method
摘要
申请公布号 EP1475670(A3) 申请公布日期 2005.02.16
申请号 EP20040076311 申请日期 2004.04.29
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 ZAAL, KOEN JACOBUS JOHANNES MARIA;VAN MEER, ASCHWIN LODEWIJK HENDRICUS JOHANNES;VAN EMPEL, TJARKO ADRIAAN RUDOLF;MIEDEMA, JAN REIN;OTTENS, JOOST JEROEN
分类号 H01L21/683;G03F7/20;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/20 主分类号 H01L21/683
代理机构 代理人
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