| 摘要 |
本发明系有关光罩之补正方法，在藉由光邻近效果补正补正光罩时，可以缩小测试光罩与补正光罩之光罩间，在线宽之图案疏密依存误差方面之差异。本方法包括：制作作为应用光邻近效果补正法之制程模型抽出用光罩而发挥机能之测试光罩之工序(S1)；使用测试光罩转印，并测量转印图案长度之工序(S2，S3)；使用函数模型，导出使模拟光罩之光罩图案之转印图案结果，变成在前述长度测量工序所获得之长度测量结果之函数模型(以下称为制程模型)之工序(S4)；使用制程模型，导出转印图案与设计图案相同之光罩图案，根据导出之光罩图案，制作光罩之光罩资料之工序(S5)；根据制作之光罩资料，制作补正光罩之工序(S6)；在补正光罩转印时，至少调节曝光装置之数值孔径(NA)以及照明条件(σ)之至少任一，求取使OPE特性在间距之宽窄方面变成平坦之条件之曝光条件设定工序(S7)。 |
