夹盘设备

摘要

本发明涉及一等离子体体反应器设备(1)，其改善了蚀刻均匀性并提高了刻蚀的产量。通过采用新型的气体输送机构(9a)和绝热的晶片吸盘(42)实现了更好的蚀刻均匀性。真空绝热的吸盘(42)还使得能量消耗低、及产量高。

主权项

1.一种用于等离子体反应器的夹盘设备，所述等离子体反应器具有反应容器，所述夹盘设备包括：具有前部和后部的夹盘，其中所述夹盘的前部适于支撑将被处理的晶片；适于加热所述夹盘的装置；以及适于在所述夹盘周围产生真空环境并适于从所述容器上分离开以便使所述夹盘绝热的装置，其中产生真空环境的装置包括与所述夹盘后部共存的后部容器，所述真空产生装置包括抽空所述后部容器的真空发生器。