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Un aparato para tratar tela que comprende un depósito de almacenamiento de tela (1) para alojar la tela (2) y un conducto de guiado de tela (11) dispuesto en una parte superior del depósito de almacenamiento de tela (1), estando el depósito de almacenamiento de tela (1) y un conducto de guiado de tela (11) conectados a y en comunicación fluida uno con otro en un lado delantero y un lado trasero opuesto, para definir un recorrido continuo para la tela (2) para circular continuamente en él desde el depósito de almacenamiento de tela (1) hasta el lado delantero del conducto de guiado de tela (11), para moverse por el conducto de guiado de tela (11) hasta el lado trasero del conducto de guiado de tela (11) y después de vuelta al depósito de almacenamiento de tela (1), comprendiendo el conducto de guiado de tela (11) un conducto de guiado de tela (11) que tiene una anchura plana formada entre una entrada del extremo delantero del conducto de guiado de tela (11) y una pared, suficiente para permitir que la tela (2) se extienda totalmente a lo ancho al moverse por el conducto de guiado de tela (11), una sección transversal de una pared del fondo del conducto de guiado de tela (11) que comprende una pluralidad de boquillas de dirección de aire (121) dispuestas a intervalos en una dirección de movimiento de la tela (2), de manera que las boquillas de dirección de aire (121) aguas arriba están espaciadas de las boquillas de dirección de aire (121) aguas abajo, a una distancia dada, teniendo cada una de las boquillas de dirección de aire (121) unas placas base de operación por reflexión (13) dispuestas aguas abajo, interconectándose las placas base de operación por reflexión (13) de las boquillas de dirección de aire (121) a través del conducto de guiado de tela (11), y un ventilador impelente (16) para guiar un flujo de aire presurizado dentro de las boquillas de dirección de aire (121) para salir a chorro, pudiendo moverse el flujo de aire presurizado aguas abajo a lo largo de las superficies de las placas base de operación por reflexión (13) y bajo la base de la tela (2) en una interacción con las placas base de operación por reflexión (13).
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