| 发明名称 | 连续淀积系统 | ||
| 摘要 | 提供一种用于处理衬底的设备和方法，其中该设备包括用于在处理环境内传送衬底的至少一个衬底承载部件；设置在处理环境中的至少一个温度控制板与至少一个衬底承载部件选择连通并用于在处理环境中从外部衬底传送装置向衬底承载部件传送衬底和调整处理环境的温度。构成为在衬底上淀积选择膜的至少一个淀积装置和退火装置在处理环境中靠近至少一个衬底承载部件设置。 | ||
| 申请公布号 | CN1500285A | 申请公布日期 | 2004.05.26 |
| 申请号 | CN01821598.X | 申请日期 | 2001.12.20 |
| 申请人 | 应用材料有限公司 | 发明人 | A·霍索卡瓦 |
| 分类号 | H01L21/00;C23C16/00;C23C14/56;C23C14/54 | 主分类号 | H01L21/00 |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 赵蓉民;彭益群 |
| 主权项 | 1、一种用于处理至少一个衬底的设备，该设备包括：用于在处理环境内传送衬底的至少一个衬底承载部件；选择地与至少一个衬底承载部件连通的至少一个温度控制板；和在处理环境中靠近至少一个衬底承载部件的处理路径设置的至少一个淀积装置，该至少一个淀积装置构成为在衬底上淀积选择的膜。 | ||
| 地址 | 美国加利福尼亚州 | ||