| 发明名称 | 封隔涂层 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用低压等离子体沉积在聚合物基件上的封隔气体的涂层，其特征在于，所述涂层包括一个以氧化硅为基体的封隔层，一个含氢无定形碳保护层覆盖该封隔层。 | ||
| 申请公布号 | CN1446270A | 申请公布日期 | 2003.10.01 |
| 申请号 | CN01813731.8 | 申请日期 | 2001.07.20 |
| 申请人 | 西德尔公司 | 发明人 | 纳赛尔·贝尔迪;埃里克·阿德里安森斯 |
| 分类号 | C23C16/26;C23C16/02;C23C16/04 | 主分类号 | C23C16/26 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 黄必青 |
| 主权项 | 1.一种用低压等离子体沉积在一聚合物基件上的封隔气体的涂层，其特征在于，所述涂层包括一个以氧化硅为基体的封隔层，并且所述封隔层被一个含氢无定形碳的保护层覆盖。 | ||
| 地址 | 法国勒阿弗尔 | ||