| 主权项 |
1.一种阴极射线管装置,具有:电子枪构体,包含形成至少1支电子束之电子束产生部,及将该电子束聚焦于萤幕上之主聚焦透镜部;及偏转轭,偏转电子枪构体放出之电子束产生向萤幕上水平方向及垂直方向扫描用偏转磁场;其特征为:上述主聚焦透镜部具有:至少1只聚焦电极,施加第1电平之一定聚焦电压;至少1只阳极电极,施加高于第1电平之第2电平之阳极电压;至少1只第1辅助电极,藉电阻器将阳极电压以电阻分隔之高于第1电平低于第2电平之第3电平电压;及至少1只动态聚焦电极,施加将同步于上述偏转轭产生之偏转磁场变动之交流电压,重叠于聚焦电压之动态聚焦电压;上述主聚焦透镜部具有至少沿电子束进行方向依序配置之下述元件:上述动态聚焦电极,至少1只上述第1辅助电极;及最终主聚焦透镜部,由至少1只上述第1辅助电极与阳极电极构成;并于上述最终主聚焦透镜部之上述电子束产生部侧,具有至少1只第2辅助电极,连接于上述第1辅助电极,以减少感应于上述最终主聚焦透镜部之上述第1辅助电极之感应电压之方式,于上述第2辅助电极附近配置施加固定电压之电极。2.如申请专利范围第1项之阴极射线管装置,其中上述第2辅助电极,由施加一定聚焦电压之一对上述聚焦电极夹持配置。3.如申请专利范围第1项之阴极射线管装置,其中上述第2辅助电极具有电子束穿透孔,对应由上述电子束产生部形成之电子束形成,设其电子束穿透孔平均径为,电极长度为L时,其间成立0.4≦L≦1.7之关系。4.如申请专利范围第2项之阴极射线管装置,其中由上述第2辅助电极与1对上述聚焦电极,构成单电位型子透镜部。5.如申请专利范围第4项之阴极射线管装置,其中将构成上述子透镜部之上述聚焦电极,与构成上述最终主聚焦透镜部之动态聚焦电极邻接配置,于此等电极间形成多极透镜,同步于上述偏转磁场变动。6.如申请专利范围第1项之阴极射线管装置,其中于构成上述最终主聚焦透镜部之上述第1辅助电极与上述阳极电极形成之透镜空间内,具有不对称透镜成分,水平方向与垂直方向之透镜强度不同。7.如申请专利范围第6项之阴极射线管装置,其中上述不对称透镜成分,具有相对向垂直方向发散,向水平方向聚焦之透镜作用。8.如申请专利范围第1项之阴极射线管装置,其中于构成上述最终主聚焦透镜部之上述第1辅助电极与上述动态聚焦电极形成之透镜空间内,具有不对称透镜成分,水平方向与垂直方向之透镜强度不同。9.如申请专利范围第8项之阴极射线管装置,其中上述不对称透镜成分,具有相对向垂直方向聚焦,向水平方向发散之透镜作用。图式简单说明:图1系具有适用本发明阴极射线管装置之加速型子透镜(sub lens)之电子枪构体一实施形态示意垂直断面图。图2系适用本发明阴极射线管装置之电子枪构体其他实施形态示意垂直断面图。图3系本发明之阴极射线管装置构造示意水平断面图。图4系说明先前之电子枪构体主透镜之等效电路图。图5系说明图1所示电子枪构体主透镜之等效电路图。图6系使用加速型子透镜之电子枪构体,倍率M对第4栅极G4之电极长度G4L(mm)关系图,各参数为G4。图7系使用加速型子透镜之电子枪构体,像差系数Cso对第4栅极G4之电极长度G4L(mm)关系图,各参数为G4。图8系使用加速型子透镜之电子枪构体,萤光体萤幕中央部上电子束光点尺寸SS(mm)对第4栅极G4之电极长度G4L(mm)关系图,各参数为G4。图9系使用加速型子透镜之电子枪构体,以最小光点尺寸规格化之光点尺寸SS%,对以第4栅极G4所形成之电子束穿透孔孔径G4,除第4栅极G4之电极长度G4L之値G4L/G4之关系图。图10系具有相当于图4所示等效电路之主透镜之电子枪构体构造示意图。图11系其他先前之电子枪构体构造示意图。 |
