发明名称 流体控制装置
摘要 本发明系提供一种流体控制装置,A,B,C,P之中一条线之下段元件各以螺丝固定在一片副基板3之上,这些下段元件之上以螺丝固定有上段元件11,12,13,14,15,16,17,18,19,各副基板3被安装在一片主基板2上,使通路连接装置50可在上方被卸下。
申请公布号 TW500891 申请公布日期 2002.09.01
申请号 TW090105391 申请日期 2001.03.08
申请人 东京电子股份有限公司;富士金股份有限公司 发明人 石井贤;冈部庸之;川野佑司;山路道雄
分类号 F17D3/00 主分类号 F17D3/00
代理机构 代理人 何金涂 台北巿大安区敦化南路二段七十七号八楼;何秋远 台北巿敦化南路二段七十七号八楼
主权项 1.一种流体控制装置,其中多数个下段元件(31)(32)(33)(34)及多个上段元件(11)(12)(13)(14)(15)(16)(17)(18)(19)成直列状连接而形成的线(A)(B)(C)(D)(E)(P)成并联状配置,相邻而配合之线(A)(B)(C)(D)(E)(P)之元件的通路间,在预定处所由通路连接装置(50)(53)(54)而连接,其特征为:(A)(B)(C)(D)(E)(P)之中一条线之下段元件(31)(32)(33)(34)各以螺丝固定在一片副基板(3)之上,这些下段元件(31)(32)(33)(34)之上以螺丝固定有上段元件(11)(12)(13)(14)(15)(16)(17)(18)(19),各副基板(3)被安装在一片主基板(2)上,使通路连接装置(50)(53)(54)可在上方被卸下。2.如申请专利范围第1项之流体控制装置,其中多个上段元件(11)(12)(13)(14)(15)(16)(17)(18)(19)中之一个,是由二口阀(61)及三口阀(62)成相邻合之配置,而形成的遮断开放器(13)。3.如申请专利范围第2项之流体控制装置,其中二口阀(61)是由具有第1流体用流入通路(65)及第1流体用流出通路(66)之本体(63),及使两通路(65,66)之间的连通被遮断或开放用的作动器(64)所形成,三口阀(62)是由具有第1流体用流入通路(70)、第2流体用流入通路(71)及第1流体与第2流体共通之流出通路(72)的本体(68),及使第2流体用流出通路(71)及流出通路(72)的连通被遮断或开放用之作动器(69)所形成,三口阀(62)之第1流体用流入通路(70)及流出通路(72)经由阀室(76)而永久连通,三口阀(62)之第1及第2流体用流入通路(70)(71)之突合面上,同流出通路(72)各在下面形成开口,二口阀(61)之第1流体用流出通路(66)与三口阀(62)之第1流体用流入通路(70)连通,再者,二口阀(61)之阀本体(63)上形成有,与三口阀(62)之第2流体用流入通路(71)连通而且在下面形成开口之第2流体用流入通路(67)。4.如申请专利范围第3项之流体控制装置,其中二口阀(61)之第1流体用流入通路(65)是由,在阀本体(63)上面形成开口并且对阀本体(63)上面向下倾斜之延伸上流部(65a),连接上流部(65a)而向上地延伸到二口阀(61)之阀室(73)之下流部(65b)所形成,相邻而配合之线(A)(B)(C)(D)(E)(P)之各第1流体用流入通路(65)是由通路连接装置(50)(53)(54)连接。5.如申请专利范围第1项之流体控制装置,其中在主基板(2)上设有增设用之空间。6.如申请专利范围第1项之流体控制装置,其中通路连接装置(50)(53)具有块状接头(51),它具有从上方以螺丝固定之I字状通路(83)。7.如申请专利范围第1项之流体控制装置,其中通路连接装置(54)是由从上方以螺丝固定之从上方以螺丝固定且形成有横向开口之多孔块状接头所形成。图式简单说明:第1图是显示本发明流体控制装置之第1实施例之平面图;第2图是第1图之A线的侧面图;第3图是显示本发明流体控制装置之第2实施例之平面图;第4图是第3图之B线的侧面图;第5图是第3图之D线的侧面图;第6图是第3图之E线的侧面图;第7图是显示本发明流体控制装置之第3实施例之平面图;第8图是遮断开放器之放大剖面图;第9图是三口阀的放大剖面图;第10图是块状接头之剖面图;第11图是反V字型通路块状之剖面图;第12图是多歧管块状接头之剖面图。
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