发明名称 Fused silica pellicle
摘要 A fused silica pellicle for use on photomasks having increased durability and improved transmission uniformity and birefringence properties. The pellicle may be secured to the photomask using an adhesive or a slide rail system, or may be held in place using a static charge.
申请公布号 US2002098420(A1) 申请公布日期 2002.07.25
申请号 US20010766907 申请日期 2001.01.22
申请人 EYNON BEN 发明人 EYNON BEN
分类号 G03F1/14;H01L21/027;(IPC1-7):G03F9/00;B44F1/00;A47G1/12;G03G16/00 主分类号 G03F1/14
代理机构 代理人
主权项
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