发明名称 POLISHING APPARATUS AND A SEMICONDUCTOR MANUFACTURING METHOD USING THE SAME
摘要 <p>La présente invention concerne un procédé de dressage de meule à une profondeur constante, ce qui empêche l'apparition dans la surface de la meule de fissures pouvant provoquer des rayures, et aiguise le dresse-meule, dont la planéité est ainsi garantie. Cette planéité peut être maintenue pendant le dressage, même si la meule mesure plusieurs centimètres d'épaisseur, pour de faibles variations de surface dans le temps. Ce procédé peut permettre d'augmenter sensiblement la durée de service du dresse-meule. Grâce au dressage constant pendant l'usinage d'une tranche, il est possible de maintenir la cadence de production et d'améliorer parallèlement le rendement de l'installation. Ce dispositif et ce procédé permettent de rendre plane une surface irrégulière quel que soit le type de tranche.</p>
申请公布号 WO2000024548(P1) 申请公布日期 2000.05.04
申请号 JP1998004881 申请日期 1998.10.28
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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