发明名称 | 液态膜干燥方法及液态膜干燥装置 | ||
摘要 | 公开了液态膜干燥方法及干燥装置。所述干燥方法包括以下工序:使具有贯通孔204的整流板200以不接触液态膜的距离靠近该被处理基板上方的工序,使整流板200旋转从而使被处理基板101的上方与整流板200的下表面之间产生气流的工序,使含有溶质的液态膜与气流接触、将液态膜中的溶剂除去,在被处理基板101上形成由前述溶质构成的固相膜的工序。使用该液态膜干燥方法,可获得良好的膜厚均匀性,同时对处理时间进行控制以提高生产率。 | ||
申请公布号 | CN1347136A | 申请公布日期 | 2002.05.01 |
申请号 | CN01140672.0 | 申请日期 | 2001.09.20 |
申请人 | 株式会社东芝 | 发明人 | 江间达彦;伊藤信一;奥村胜弥 |
分类号 | H01L21/027;H01L21/30;G03F7/16 | 主分类号 | H01L21/027 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王杰 |
主权项 | 1、液态膜干燥方法,其特征为,包括以下工序:使具有一个以上的贯通孔的整流板以不接触形成于被处理基板上的含有溶质的液态膜的距离靠近该被处理基板上方的工序,使前述整流板旋转,使该被处理基板上方与该整流板的下表面之间产生气流的工序,使液态膜与前述气流接触除去前述液态膜中的溶剂,在前述被处理基板上形成由前述溶质构成的固相膜的工序。 | ||
地址 | 日本东京都 |