| 主权项 |
1.一种研磨式金属与玻璃纤维之清洗与研磨装置, 该装置至少包含: 一基板,其系具有相反的两个表面,以及一个永久 附在至少一个上述表面一侧之研磨组件,上述基板 并具有一能够吸收和保持其他组件于其中之基质; 及 一乳剂,被吸收于上述基板中,并被保持于上述基 质中,上述乳剂至少包含: 重量百分比介于5-40%间之可乳化的有机溶剂,其系 可溶解脂性、油性的灰尘,并含有一个或多个脂肪 族液体、二硷基酯、蔬菜油、类、二醇醚、石 油、醇类、二醇类、糠基、石油蒸馏物和多醇; 重量百分比介于1-15%间的界面活性剂,具有可与上 述溶剂形成水和油之乳化剂的特性; 重量百分比介于1.1-24%间的去氧化剂; 重量百分比介于0.5-10%间的乳化剂;及 重量百分比介于15-70%间的水; 其中上述基板在上述乳剂中仍保有其研磨特性,而 研磨式的清洗与研磨作用,系藉由上述乳剂和上述 基板表面上所述研磨组件之组合而达到。2.如申 请专利范围第1项所述之研磨式金属与玻璃纤维之 清洗与研磨装置,其中上述基板包含一个拭巾。3. 如申请专利范围第2项所述之研磨式金属与玻璃纤 维之清洗与研磨装置,其中上述拭巾具有一个研磨 表面和一个非研磨表面。4.如申请专利范围第1项 所述之研磨式金属与玻璃纤维之清洗与研磨装置, 其中上述溶剂包含无机酒精。5.如申请专利范围 第4项所述之研磨式金属与玻璃纤维之清洗与研磨 装置,其中上述界面活性剂包含一种阴离子界面活 性剂。6.如申请专利范围第1项所述之研磨式金属 与玻璃纤维之清洗与研磨装置,其中上述乳剂又包 含重量百分比介于 0.005-1.0%间的抗菌保存剂。7.如申请专利范围第1项 所述之研磨式金属与玻璃纤维之清洗与研磨装置, 其中上述乳剂又包含重量百分比介于5-40%间的一 种研磨微粒。8.一种研磨式金属与玻璃纤维之清 洗与研磨装置,该装置至少包含: 一基板,其系具有相反的两个表面,以及一个永久 附在至少一个上述表面一侧之研磨组件,上述基板 并具有一能够吸收和保持其他组件于其中之基质; 及 一乳剂,被吸收于上述基板中,并被保持于上述基 质中,上述乳剂至少包含: 重量百分比介于5-40%间之可乳化的有机溶剂,其系 可溶解脂性、油性的灰尘,并含有一个或多个脂肪 族液体、二硷基酯、蔬菜油、类、二醇醚、石 油、醇类、二醇类、糠基、石油蒸馏物和多醇; 重量百分比介于1-15%间的界面活性剂,具有可与上 述溶剂形成水和油乳化剂的特性; 重量百分比介于1.1-24%间的去氧化剂; 重量百分比介于0.5-10%间的乳化剂;及 重量百分比介于15-70%间的水; 其中上述基板在上述乳剂中仍保有其研磨特性,而 研磨式的清洗与研磨作用系藉由上述乳剂和上述 基板表面上所述研磨组件之组合而达到; 复数个上述之拭巾置于一选择性可封合,且基本上 不透气具有中空内部的容器中,以及一种相关的封 闭手段(a means for closure),该封闭手段包含一个开口 以便接收穿过该开口之上述拭巾; 其中吸入上述乳剂之个别上述拭巾,可从上述容器 内部通过上述开口被取出。9.一种制备一金属与 玻璃纤维之清洗与研磨装置的方法,该方法至少包 含下列步骤: 提供数个拭巾,每个上述之拭巾具有相反两个表面 ,以及一个永久附在至少一个上述表面一侧之研磨 组件,上述之拭巾除了可吸收和保持液体外,并可 同时保持其研磨性; 提供可吸附于上述拭巾的一种乳剂,该乳剂至少包 含: 重量百分比介于5-40%间之可乳化的有机溶剂,其系 能够溶解脂性、油性的灰尘,并含有一个或多个脂 肪族液体、二硷基酯、蔬菜油、类、二醇醚、 石油、醇类、二醇类、糠基、石油蒸馏物和多醇; 重量百分比介于1-15%间的界面活性剂,具有与上述 之溶剂形成水和油的乳剂的特性; 重量百分比介于1.1-24%间的去氧化剂; 重量百分比介于0.5-10%间的乳化剂;及 重量百分比介于15-70%间的水; 提供一个具有中空内部之选择性可封合容器,用以 放置上述之拭巾,上述容器中具有包含一个开口的 封闭手段; 将上述数个拭巾置入该容器内; 在上述容器内之上述数个拭巾上加入上述乳剂,藉 以根据一定量之上述乳剂润湿上述拭巾;及 封合位于上述容器上之上述封闭手段,以提供一基 本上为不透气的容器。10.一种金属与玻璃纤维之 清洗与研磨装置,该装置至少包含: 一基板,其包含具有相反两个表面的拭巾,以及一 个永久附在至少一个上述表面的一侧之研磨组件, 上述基板具有可吸收和保持其他组件于其中之基 质;及 一乳剂,吸收于上述之拭巾中,上述之乳剂至少包 含:重量百分比介于5-40%间的无机酒精、重量百分 比介于15-70%间的水、重量百分比介于1-15%间的阴 离子界面活性剂、重量百分比介于0.5-10%间的乳化 剂、重量百分比介于1.1-24%间的去氧化剂、重量百 分比介于5-40%间的研磨微粒,以及重量百分比介于0 .005-1%间的抗菌保存剂;其中清洗作用系藉由上述 之乳剂和上述之拭巾表面的研磨组件之组合而达 到,而上述基板在上述乳剂中仍保有其研磨特性; 多个上述拭巾,置于选择性可封合、基本上不透气 且具有中空内部的容器中,以及一种相关的封闭手 段,上述之封闭手段系包含一个开口于其中,以便 接收穿过该开口之上述拭巾; 其中吸入上述乳剂之个别上述拭巾,可从上述容器 内部通过上述开口被取出。11.一种清洗与研磨金 属与玻璃纤维表面的方法,该方法至少包含: 准备一种金属与玻璃纤维之清洗装置,该装置至少 包含:一基板,其包含具有相反两个表面的拭巾,以 及一个永久附在至少一个上述表面的一侧之研磨 组件,上述基板具有可吸收和保持其他组件于其中 之基质;以及一乳剂,吸收于上述拭巾中,上述乳剂 至少包含重量百分比介于5-40%间的可乳化有机溶 剂,其系能够溶解脂性、油性的灰尘,并含有一个 或多个脂肪族液体、二硷基酯、蔬菜油、类、 二醇醚、石油、醇类、二醇类、糠基、石油蒸馏 物和多醇;重量百分比介于1-15%间的界面活性剂,具 有与上述之溶剂形成水和油的乳剂的特性;重量百 分比介于1.1-24%间的去氧化剂;重量百分比介于0.5- 10%间的乳化剂;及重量百分比介于15-70%间的水;其 中上述基板在上述乳剂中仍保有其研磨特性,而研 磨式的清洗和研磨作用系藉由上述乳剂和上述拭 巾表面的研磨组件之组合而达到; 用上述装置的第一边摩擦待清洗的表面,以去除其 氧化物与其他杂质;及 用上述装置的第二边摩擦该表面,以研磨上述之表 面。12.如申请专利范围第11项所述之方法,其中上 述装置的第一边具研磨性。13.如申请专利范围第 11项所述之方法,其中上述装置的第二边不具研磨 性。 |
