发明名称 | 高对比等离子平面显示器及其制造方法 | ||
摘要 | 一种高对比等离子平面显示器,其由玻璃基板、黑色掩模、透明电极、总线电极、介电层及MgO层构成;黑色掩模形成在玻璃基板表面的电极形成区域及不发光区域;透明电极形成在电极形成区域的黑色掩模表面。总线电极形成在透明电极的表面;介电层及MgO层依序沉积在玻璃基板上方;黑色掩模由Cr/Cr<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>、Fe/Fe<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>结构或黑色低融点玻璃物质构成;透明电极由铟锡氧化物或氧化锡所构成;总线电极由Cr/Cu/Cr、Cr/Al/Cr结构或Ag结构构成。介电层由氧化铅或氧化硅等物质构成。 | ||
申请公布号 | CN1289140A | 申请公布日期 | 2001.03.28 |
申请号 | CN99120312.7 | 申请日期 | 1999.09.20 |
申请人 | 达碁科技股份有限公司 | 发明人 | 卢金钰;宋文发;黄春津;李大元 |
分类号 | H01J17/49;G09F9/313 | 主分类号 | H01J17/49 |
代理机构 | 柳沈知识产权律师事务所 | 代理人 | 李晓舒 |
主权项 | 1.一种等离子平面显示器的制造方法,其特征在于,它包括下列步骤:(a)提供一玻璃基板;(b)在该玻璃基板上形成一遮光掩模,遮光掩模具有一遮光掩模顶面;(c)在该玻璃基板上紧邻该遮光掩模处形成一透明电极,该透明电极具有一侧向延伸区,该侧向延伸区覆盖于该遮光掩模顶面上;(d)在该透明电极的侧向延伸区上形成一总线电极,如此使该总线电极底面受到该遮光掩模遮蔽而减少反光。 | ||
地址 | 台湾省新竹市科学工业园区 |