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发明名称 Method for neutralizing charges for a focused ion beam apparatus
摘要 <p>본 발명은 전하중화를 위한 전자빔을 가늘게 좁혀 포토마스크에 주사한다. 2차 전자 이미지를 일단 메모리부에 취한다. 2차 전자 이미지로부터, 가늘게 좁힌 고 전류밀도의 전자빔이, 필요한 곳에 고속으로 주사되어 조사되도록 전자빔 조사 위치를 결정한다.</p>
申请公布号 KR19990088652(A) 申请公布日期 1999.12.27
申请号 KR19990019480 申请日期 1999.05.28
申请人 null, null 发明人 다카오카오사무;아이타가즈오
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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