发明名称 |
Production of an anti-scattering screening grid used in X-ray diagnosis |
摘要 |
Recesses (2) in a supporting body (1) are formed by an anisotropic dry etching process.
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申请公布号 |
DE19839619(A1) |
申请公布日期 |
1999.12.09 |
申请号 |
DE19981039619 |
申请日期 |
1998.08.31 |
申请人 |
SIEMENS AG |
发明人 |
SCHMETTOW, DIETER |
分类号 |
G21K1/10;(IPC1-7):G21K1/02 |
主分类号 |
G21K1/10 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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