| 发明名称 |
GAS-LIQUID REACTION WATER TREATING DEVICE, AND GAS INJECTION DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH11309469(A) |
申请公布日期 |
1999.11.09 |
| 申请号 |
JP19980119100 |
申请日期 |
1998.04.28 |
| 申请人 |
TOSHIBA CORP |
发明人 |
ISHIKAWA KATSUHIRO;TAMURA HIROSHI |
| 分类号 |
C02F1/78;B01F1/00;B01F3/04;B01J10/00;(IPC1-7):C02F1/78 |
主分类号 |
C02F1/78 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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