大面积类金刚石碳膜低温制备方法及装置

摘要

本发明提出一种材料表面大面积类金刚石碳膜低温制备方法及装置,具体说是在密闭的真空室内充入含碳气体,并对工件施加负高压电脉冲,激发等离子体,在工件温度不变的条件下,在其表面形成一层膜基间无界面的大面积类金刚石碳膜。其装置为一个具有封闭磁场的真空室,室外设高压脉冲电源及磁场,室内设工件台或支架及高电压引入电极,以及油冷、水冷系统。采用本发明可以对成批工件,在其表面制取一层无界面的高结合力的类金刚石碳膜。

主权项

1.一种大面积类金刚石碳膜低温制备方法，其特征在于：该方法包括下列步骤：将工件放在加有磁场的密闭真空室内，其真空度为≤1×10-4Pa，磁场为封闭磁场，磁场强度为1000-3000高斯，充以含碳气体，至气压为7～1×10-1Pa，以工件为阴极，室壁为阳极，施加2～30KV的脉冲电压，脉宽为10～200μs，重复频率50～400Hz，激发辉光放电，产生含碳等离子体，并在工件表面注入和淀积一层类金刚石碳(以下称DLC)膜。