以辐射线处理流体的系统

摘要

一种流体处理系统，其包括一个或多个设在处理区内之照射区内之辐射源，要被处理之流体流经处理区并被照射。照射区具有一个封闭截面，使流体维持在距离该辐射源一段设定的最大距离范围之内。辐射区最好包括一个缩减的截面区域，其垂直于流体流动方向，而且经过照射区时流体流速加快。此举允许流体以慢速进入处理区，快速通过照射区，而以慢速离开处理区，以降低流经系统之压力损失。进入处理区之流体通过一个入口过渡区，在进入照射区以前，入口渡区之截面面积灭小，而且流体经由一个出口过渡区而离开照射区，出口过渡区之截面面积增加。每一过渡区之设计目的是要减小流速加快和降低时之压力损失。在照射区内，辐射源系装设在辐射单位上，辐射单位设计成很容易触及，以利维修。辐射单立亦可设有清洁设备，以移去会弄脏辐射源之物，同时使辐射源仍在照射区内。

主权项

1.一种用于一流体处理系统装置之辐射源设备(148),其包括:一个支撑腿部构件(160);至少一个由该支撑腿部构件(160)延伸之辐射源装置(176);以及一个由该支撑腿部沟件(160)延伸之导引构件(164);其中该至少一个辐射源装置(176)由该支撑腿部构件(160)延伸之方向大致上平行于该导引构件(164),而该导引构件(164)由该支撑腿部构件(160)延伸而出,并具有一自由端。2.如申请专利范围第1项所述之辐射源设备,其中该导引构件(164)由该支撑腿部构件(160)处延伸而出之程度比该至少一个辐射源装置(176)大。3.如申请专利范围第1项所述之辐射源设备,其中该至少一个辐射源装置(176)包括一个紫外线灯(180)。4.如申请专利范围第3项所述之辐射源设备,其中该至少一个辐射源装置(176)更包含一个环绕着该紫外线灯(180)之套筒(184),以在该紫外线灯(180)和该流体之间提供一个绝缘沟。5.如申请专利范园第1项所述之辐射源设备,其中该支撑腿部构件(160)包括管路构件,使一电力源(220)可经由该管路构件而提供给该至少一个辐射源装置(176)。6.如申请专利范园第3项所述之辐射源设备,其中至少有两个紫外线灯(180)被连接到每一支撑腿部构件(160)。图式简单说明:第一图系一习用流体处理装置之侧视截面图。第二图系第一图中之习用流体处理装置之端视截面图。第三图系依据本发明之水平式流体处理系统之第一实施的侧视截面图。第四图系一辐射源单位,其与第三图中之系统一起使用。第五图系第四图中之圆圈A之放大图。第六图介绍可与第三图中之系统一起使用之辐射源单位的另一个实施例的部分图。第七图系第六图中之圆圈B之放大图。第八图系依据本发明之垂直式流体处理系统之第二实施之侧视截面图。第九图介绍一辐射感测器设备。