| 发明名称 |
Method for forming field oxide film in semiconductor device |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB9624158(D0) |
申请公布日期 |
1997.01.08 |
| 申请号 |
GB19960024158 |
申请日期 |
1996.11.20 |
| 申请人 |
HYUNDAI ELECTRONICS INDUSTRIES, CO., LTD |
发明人 |
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| 分类号 |
H01L21/76;H01L21/3105;H01L21/762 |
主分类号 |
H01L21/76 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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