| 发明名称 |
ETCHING MASK OF SEMICONDUCTOR, MANUFACTURE THEREOF, SEMICONDUCTOR PROCESSING METHOD, AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR LASER |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH08148479(A) |
申请公布日期 |
1996.06.07 |
| 申请号 |
JP19940283794 |
申请日期 |
1994.11.17 |
| 申请人 |
MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD |
发明人 |
YOSHII SHIGEO;OKAWA KAZUHIRO;MITSUYU TSUNEO |
| 分类号 |
H01L21/308;H01S5/00;(IPC1-7):H01L21/308;H01S3/18 |
主分类号 |
H01L21/308 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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