发明名称 HIGH-FREQUENCY INDUCTION PLASMA SOURCE DEVICE FOR PLASMA TREATMENT
摘要
申请公布号 JPH088095(A) 申请公布日期 1996.01.12
申请号 JP19940210340 申请日期 1994.08.01
申请人 TEXAS INSTR INC <TI> 发明人 AJITO PII PARANJIPU
分类号 C23F4/00;H01J37/32;H01L21/3065;H05H1/46;(IPC1-7):H05H1/46 主分类号 C23F4/00
代理机构 代理人
主权项
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