Procédé d'infiltration chimique en phase vapeur d'un matériau au sein d'un substrat poreux à température de surface contrôlée.

摘要

Le substrat (10) est placé dans une enceinte (12) et chauffé en établissant au sein de celui-ci un gradient thermique de sorte que le substrat présente une température plus élevée dans des parties éloignées de ses surfaces exposées qu'au niveau de celles-ci. Une phase gazeuse réactionnelle précurseur du matériau à infiltrer est admise dans l'enceinte, la formation du matériau étant favorisée dans les parties du substrat de température plus élevée. Au début du processus d'infiltration et au moins pendant la plus grande partie de celui-ci, le chauffage du substrat est commandé de manière à maintenir la température de ses surfaces exposées à une valeur au plus égale à la température minimale de dépôt du matériau à infiltrer à partir de la phase gazeuse réactionnelle, tandis que les parties du substrat éloignées de ses surfaces exposées sont à une température supérieure à la température minimale de dépôt.