首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Vorrichtung und Verfahren zur Lithographie mittels eines Strahls geladener Teilchen.
摘要
申请公布号 DE68920281(D1) 申请公布日期 1995.02.09
申请号 DE19896020281 申请日期 1989.10.26
申请人 FUJITSU LTD., KAWASAKI, KANAGAWA, JP 发明人 SAKAMOTO, KIICHI, TOSHIMA-KU TOKYO, 170, JP;YASUDA, HIROSHI, YOKOHAMA-SHI KANAGAWA, 222, JP;YAMADA, AKIO, KAWASAKI-SHI KANAGAWA, 213, JP
分类号 H01J37/317;(IPC1-7):H01J37/30;G03F7/20 主分类号 H01J37/317
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com