发明名称 印相显影装置
摘要 一种印相显影装置,结构上具有能进行由施加于以往控制条上的规定条件构成的基准曝光的构件、作显影处理后密度测定的构件以及根据测定结果提示处理液状态的构件。备有基准曝光用负片,还具有控制部,进行通常印相时和基准曝光时的光源转换,测定基准曝光后处理所得的感光材料密度,并根据测定结果运算、判断和显示处理液状态。如此获得能简便进行液体管理的构件,实现印相显影处理的简化和质量提高。
申请公布号 CN1094825A 申请公布日期 1994.11.09
申请号 CN94100036.2 申请日期 1994.01.07
申请人 诺日士钢机株式会社 发明人 西田茂树;谷端透
分类号 G03D3/00;G03B27/00 主分类号 G03D3/00
代理机构 上海专利事务所 代理人 汪瑜
主权项 1、一种连续进行感光材料印相、显影处理的印相显影装置,其特征在于具有:具备处理液状态判断基准曝光条件的基准曝光构件、对以上述基准曝光构件作印相、显影处理的感光材料密度进行测定的密度测定构件、以及根据上述密度测定结果判断、显示处理液状态的判断显示构件。
地址 日本和歌山县