| 发明名称 |
VACUUM TREATMENT METHOD AND VACUUM TREATMENT DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH06104178(A) |
申请公布日期 |
1994.04.15 |
| 申请号 |
JP19920249565 |
申请日期 |
1992.09.18 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
SHIRAYONE SHIGERU;UEDA SHINJIRO;TAKAHASHI NUSHITO;EDAMURA MANABU;TAMURA NAOYUKI |
| 分类号 |
H01L21/205;(IPC1-7):H01L21/205 |
主分类号 |
H01L21/205 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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