| 发明名称 |
EXPOSURE TREATMENT SYSTEM, CHARGED PARTICLE BEAM ALIGNER AND CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH0536594(A) |
申请公布日期 |
1993.02.12 |
| 申请号 |
JP19910218178 |
申请日期 |
1991.08.29 |
| 申请人 |
FUJITSU LTD |
发明人 |
SAKAMOTO JUICHI;YASUDA HIROSHI;YAMADA AKIO;KAWASHIMA KENICHI;DAIKYO YOSHIHISA |
| 分类号 |
H01J37/30;G06F17/50;H01L21/027;H01L21/30 |
主分类号 |
H01J37/30 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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