| 发明名称 |
POSITIVE-TYPE PHOTO-SENSITIVE ANIONIC ELECTRODEPOSITION COATING RESIN COMPOSITION, ELECTRODEPOSITION BATH AND ELECTRODEPOSITION METHOD USING THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPH04311775(A) |
申请公布日期 |
1992.11.04 |
| 申请号 |
JP19910078957 |
申请日期 |
1991.04.11 |
| 申请人 |
HITACHI CHEM CO LTD |
发明人 |
KO MASAHIKO;TACHIKI SHIGEO;AKAHORI SATOHIKO;KATO TAKURO |
| 分类号 |
C23F1/00;C09D5/44;C09D133/02;C09D133/04;C25D13/06;G03F7/023;H05K3/06 |
主分类号 |
C23F1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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