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发明名称 PHOTORESIST PROCESSES COMPOSITIONS THEREFOR
摘要
申请公布号 KR920001450(B1) 申请公布日期 1992.02.14
申请号 KR19870014729 申请日期 1987.12.22
申请人 SHIPLEY CO., INC. 发明人 DANIELS, BRIAN K.;MADOUX, DAVID C.;TEMPLETON, MICHAEL K.;TREPONAS, PETER III.;WOODBREY, JAMES C.;ZAMPINI, ANTHONY
分类号 G03C1/72;G03F7/004;G03F7/016;G03F7/022;G03F7/039;G03F7/30;H01L21/027;(IPC1-7):G03F7/016 主分类号 G03C1/72
代理机构 代理人
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