| 发明名称 |
MASKENSTRUKTUR FUER DIE LITHOGRAFIE, VERFAHREN ZU IHRER HERSTELLUNG UND LITHOGRAFIEVERFAHREN |
| 摘要 |
<p>A mask structure for lithography has a ring frame holding the peripheral portion of a thin film for holding a mask material, the mask material holding thin film comprising a layer of aluminum nitride.</p> |
| 申请公布号 |
DE3539201(A1) |
申请公布日期 |
1986.05.07 |
| 申请号 |
DE19853539201 |
申请日期 |
1985.11.05 |
| 申请人 |
CANON K.K. |
发明人 |
KATO,HIDEO;MATSUSHIMA,MASAAKI;MATSUDA,KEIKO;SHIBATA,HIROFUMI |
| 分类号 |
G03F1/22;(IPC1-7):G03F1/00;H01L21/31 |
主分类号 |
G03F1/22 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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