| 主权项 |
1.一种氟化烃,其特征在于含有以下式(I) Rf1-R1-Rf2 (I) (R1为表示CHF及CH2键结的碳链;Rf1及Rf2各为全氟烷基 且Rf1及Rf2亦可相互键结形成环)表示的碳数5之环 状三氢氟碳95重量%以上。2.如申请专利范围第1项 之氟化烃,其中式(I)表示的三氢氟碳之纯度为99重 量%以上。3.一种氟化烃之制造方法,其特征在于将 下式(II) Rf1-CHF-CHF-Rf2 (II) (Rf1及Rf2各自表示全氟烷基、Rf1及Rf2相互键结形成 环亦可)表示的二氢氟碳予以硷处理,其次氢化而 成。4.如申请专利范围第3项之氟化烃之制造方法, 其中式(II)表示的二氢氟碳为脂环族化合物。5.如 申请专利范围第3项之氟化烃之制造方法,其中式( II)表示的二氢氟碳之硷性处理而用的硷系由碳酸 氢金属类、碳酸金属类、氢氧化物类、阴离 子交换树脂类选择的至少一种者,其使用量系对二 氢氟碳1莫耳在当量以上。6.如申请专利范围第3项 之氟化烃之制造方法,其中硷性处理后之氢化反应 的压力为常压-10kgf/cm2,反应温度为常温-350℃。7. 一种氟化烃组成物,其特征在于含有申请专利范围 第1项之氟化烃及沸点在25℃以上至250℃以下的至 少一种之有机溶剂且该有机溶剂之添加量为全体 之2-50重量。8.如申请专利范围第7项之氟化烃组成 物,其中有机溶剂系由烃类、醇类、酯类、氯化烃 类、其他氟化烃类、醚类、酮类、挥发性有机矽 氧选择的至少一种者。9.如申请专利范围第7项之 氟化烃组成物,其中组成物为共沸组成物。10.如申 请专利范围第9项之氟化烃组成物,其中形成共沸 组成物之有机溶剂为低级醇类、烃类、氯化烃、 其他氟化烃类。11.如申请专利范围第1项之氟化烃 ,系作为清洁剂者。12.如申请专利范围第7项至第10 项之任一项之氟化烃组成物,系作为清洁剂者。13. 如申请专利范围第11项之氟化烃,系用于使已附着 有污染物质之物品,与由烃类、醇类、酯类、氯化 烃、其他氟化烃、醚类、酮类、挥发性有机矽氧 类选出的至少一种而成的有机溶剂接触,去除污染 物质,使去除污染物质后的物品上附着的有机溶剂 与申请专利范围第11项之氟化烃接触、清洗洗净 、或在含申请专利范围第11项之氟化烃之蒸气中 蒸气洗净。14.如申请专利范围第12项之氟化烃组 成吻,使由已附着有污染物质之物品,与由烃类、 醇类、酯类、氯化烃、其他氟化烃、醚类、酮类 、挥发性有机矽氧类选出的至少一种而成的有机 溶剂接触,去除污染物质,使去除污染物质后的物 品上附着的有机溶剂与申请专利范围第12项之氟 化烃组成物接触、清洗洗净、或在含申请专利范 围第12项之氟化烃组成物之蒸气中蒸气洗净。15. 如申请专利范围第1项或第2项之氟化烃,系用以溶 解或分散具有皮膜形成能力之聚合物者。16.如申 请专利范围第7项至第10项之任一项之氟化烃组成 物,系用以溶解或分散具有皮膜形成能力之聚合物 者。17.如申请专利范围第15项之氟化烃,其中具有 皮膜形成能力之聚合物,系由氟系聚合物、矽氧树 脂、酚树脂、聚烯烃树脂选出的至少一种者。18. 如申请专利范围第16项之氟化烃组成物,其中具有 皮膜形成能力之聚合物,系由氟系聚合物、矽氧树 脂、酚树脂、聚烯烃树脂选出的至少一种者。19. 如申请专利范围第15项之氟化烃,其中具有皮膜形 成能力之聚合物,系具有由润滑性、被凝着性、拨 液性之中选出的至少一种性质者。20.如申请专利 范围第16项之氟化烃组成物,其中具有皮膜形成能 力之聚合物,系具有由润滑性、被凝着性、拨液性 之中选出的至少一种性质者。21.如申请专利范围 第15项之氟化烃,其中又包含矿物油、矽氧油、高 级醇、高级脂肪酸及此等之、高级脂肪酸酯、 含氟矽烷化合物之中选择的一种而成的润滑剂。 22.如申请专利范围第16项之氟化烃组成物,其中又 包含矿物油、矽氧油、高级醇、高级脂肪酸及此 等之、高级脂肪酸酯、含氟矽烷化合物之中选 择的一种而成的润滑剂。23.如申请专利范围第21 项之氟化烃,其中润滑剂之使用量对聚合物100重量 份为0.01-50重量份。24.如申请专利范围第22项之氟 化烃组成物,其中润滑剂之使用量对聚合物100重量 份为0.01-50重量份。25.如申请专利范围第15项之氟 化烃,系用以涂布在被涂布固体之表面上,接着去 除媒介液而形成聚合物膜者。26.如申请专利范围 第16项之氟化烃组成物,系用以涂布在被涂布固体 之表面上,接着去除媒介液而形成聚合物膜者。27. 如申请专利范围第25项之氟化烃,其中被涂布固体 系磁气记录媒体、光碟、清洁刮片、或喷墨记录 头。28.如申请专利范围第26项之氟化烃组成物,其 中被涂布固体系磁气记录媒体、光碟、清洁刮片 、或喷墨记录头。图式简单说明: 第一图系表示供本发明之清洗洗洁用的装置例之 构成图。 |
