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Zur Steuerung eines Entwicklungs- oder Ätzvorganges wird das zu ätzende oder die zu entwickelnde Schicht tragende Werkstück (6), das beispielsweise ein zur Herstellung von integrierten Schaltungen dienendes Halbleiterplättchan sein kann, mit einer Gitterstruktur (G) versehen. Diese auf einem zur Erzeugung der gewünschten Struckturen nicht benötigten oder von diesen ausgesparten Bereich des Werkstücks vorgesehene Gitterstrucktur wird durch den Ätz- oder Entwicklungsvorgang gleichzeitig mit den gewünschten Strukturen erzeugt. Um festzustellen, ob die geätzten oder entwickelten Bereiche ihre Sollform, d.h. die vorgeschriebene Breite oder Tiefe bzw. den vorgeschriebenen Verlauf der Kantenprofile erreicht haben, wird während des Ätz- oder Entwicklungsvorganges ein Lichtstrahl auf die entstehende Gitterstruktur gerichtet und die Intensität der dabei entstehenden zweien Beugungsordnung gemessen. Die Gitterstruktur ist so ausgebildet, daß bei Erreichen der Sollform die zweite Beugungsordnung verschwindet oder ein Minimum durc läuft, wodurch die Beendigung des Ätz- oder des Entwicklungsvorganges mit großer Genauigkeit angezeigt wird.
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