曝光装置之检查方法及曝光装置

摘要

本发明系不必花费成本而进行曝光装置之照明轴偏移之检查。利用光罩1使感光基板18之表面与二次光源14之面成为光学上共轭的状态，在此状态下，照亮不含投影光学系统17之光瞳端之区域及不与该区域重叠之含投影光学系统17之光瞳端之区域而使感光基板18曝光，然后，依据使感光基板18显影所得之图案检查照明轴偏移。