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전자빔의 묘화 패턴 디자인, 포토마스크, 포토마스크의 전자빔 묘화 방법, 포토마스크의 제조 방법 및 반도체 소자의 제조 방법이 설명된다. 본 발명의 기술적 사상에 의한 포토마스크의 전자빔 묘화 방법은, 표면에 전자빔 레지스트가 형성된 포토마스크를 준비하고, 상기 전자빔 레지스트를 묘화하고, 및 상기 전자빔 레지스트 패턴을 형성하는 것을 포함하고, 상기 전자빔 레지스트를 묘화하는 것은, 전자빔이 조사되는 전자빔 묘화 영역, 및 상기 전자빔 묘화 영역 내에 배치되고 전자빔이 조사되지 않는 전자빔 비묘화 영역을 포함하고, 상기 전자빔 묘화 영역과 상기 전자빔 비묘화 영역은 동일한 극성의 전자빔 레지스트 패턴으로 형성된다. |
