Vorrichtung und Verfahren zum Implementieren der Korrektur von prognostizierten systematischen Fehlern bei der positionsspezifischen Bearbeitung

摘要

Es wird ein Verfahren zum Modifizieren einer oberen Schicht eines Werkstücks unter Verwendung eines Gascluster-Ionenstrahls (GCIB) beschrieben. Das Verfahren umfasst das Erfassen von Parameterdaten, die sich auf eine obere Schicht eines Werkstücks beziehen, und das Bestimmen einer prognostizierten systematischen Fehlerreaktion für die Anwendung eines GCIB auf die obere Schicht, um ein Anfangsprofil eines gemessenen Attributs unter Verwendung der Parameterdaten zu ändern. Darüber hinaus umfasst das Verfahren das Identifizieren eines Zielprofils des gemessenen Attributs, das Lenken des GCIB zu der oberen Schicht des Werkstücks und das räumliche Modulieren einer angewandten Eigenschaft des GCIB – auf Grund, zumindest teilweise, der prognostizierten systematischen Fehlerreaktion und der Parameterdaten – als eine Funktion der Position auf der oberen Schicht des Werkstücks, um das Zielprofil des gemessenen Attributs zu erreichen.