除莠剂

摘要

至少含有一个下列化学式之化合物的除莠组合物：□ Ⅰ其中R1和R2分别是下列之其中一种，在每一种状况中代表羟基、卤素，氰基或硝基基团或代表非取代或被具有1-4C原子之某烷基取代之氨基基团或代表非取代或被羟基、卤素或氰基基团单一取代或聚取代之具有1-10C原子之直链或分枝的某烷基或代表具有1-10C原子之直链或分枝的烷氧基，具有5-7原子之环烷基，具有5-7C原子之环烷氧基，苯基、酚氧基、烷硫基或具有1-4C原子之某烷基基， n和m在每一个状况下分别代表数目，0，1，2或3， n+m代表1到5之数目， R3代表一个羟基或卤素基团或化学式-OC(O)ZR4或-OC(O)NR4R5之一个基团其中R4代表一个非取代性或被一个苯基基团取代之具有1-15C原子之直链或分枝的，饱和或不饱和的某烷基基团或代表具有5-7C原子之一个苯基团或一个环烷基基团，R5代表一个非取代或或被一个苯基基团取代之具有1-15C原子之直链或分枝的，饱和或不饱和的某烷基基团或代怀具有5-7原子之一个苯基团或一个环烷基基团，Z代表一个单键，氧或硫及 X代表卤素或其植物生理学上可接受的盐类。

主权项

1.一种除莠组合物,其包含至少一如下式之化合物其中R代表一苯基,且该苯基系由选自、卤素、氰基、硝基、胺基、未被取代或被卤素取代之具有1至10个c原子的烷基、具有5至7个C原子之环烷基具有1至10个c原子的烷氧基、苯氧基、具有1至4个c原子的烷硫基之一、二或三个基团所取代者,R3代表一个羟基或卤素基团或化学式-OC(O)ZR4或-OC(O)NR4R5之一个基团,其中Z代表一个单键、氧或硫,R4代表一个非取代性或被一个苯基基团取代之具有1-15个C原子之直链或分枝的烷基团,或代表具有5-7个C原子之一个环烷基基团,或苯基,R5代表具有1至4个C原子之烷基团,及X代表卤素,或其植物生理学上可接受的盐类。2.如申请专利范围第1项之除莠组合物,其包含至少一如申请专利范围第1项之化学式I的化合物,其中R代表一被环己基或被选自卤素基团、未被取代或被卤素取代之具有1至4个C原子的烷基或具有1至4个C原子的烷氧基之一或两个基团所取代之一苯基,R3代表化学式-OC(O)ZR4之一个基团其中R4和Z如申请专利范围第1项中之意义,及X代表氯或溴,及其植物生理上可接受之酸性添加盐类。3.如申请专利范围第1项之除莠组合物,其包含至少一如申请专利范围第1项之化学式I的化合物,其中R代表一被三氟甲基或被一或两个氯或氟所取代的苯基,R3代表化学式-OC(O)ZR4之一个基团,其中R4和Z具有在申请专利范围第1项中之意义,且X代表氯或溴。4.一种控制杂草之方法,其系包含使化学式I之化合物,其中R,R3和X具有在申请专利范围第1项中之意义,作用在杂草或其环境上。5.一种制备除莠组合物之方法,其包含将化学式I之化合物,其中R,R3和X具有在申请专利范围第1项中之意义,与