发明名称 |
摩擦电子学晶体管及与非门、触发器、寄存器和计数器 |
摘要 |
本发明公开了一种浮栅式摩擦电子学晶体管,包括:基材,所述基材包括:沟道层;绝缘层,形成于沟道层之上;基片层,形成于绝缘层之上;两个金属电极,分别沉积于沟道层之下两个不同位置,引出浮栅式摩擦电子学晶体管的漏极和源极;金属栅极,形成于所述基片层之上;高分子基板,形成于栅极导电层之上;金属膜,形成于高分子基板之上,通过过孔与金属栅极连接;移动摩擦件,其能够在外力作用下移动,与金属膜接触或分离。本发明还提供基于所述浮栅式摩擦电子学晶体管的与非门、触发器、寄存器和计数器。本发明基于接触触发的机电时序逻辑运算,实现集成的机电耦合控制的时序逻辑存储与计算,解决了外界环境与硅基集成电路的主动式直接交互问题。 |
申请公布号 |
CN106531811A |
申请公布日期 |
2017.03.22 |
申请号 |
CN201611029929.2 |
申请日期 |
2016.11.15 |
申请人 |
北京纳米能源与系统研究所 |
发明人 |
张弛;王中林;张丽敏 |
分类号 |
H01L29/788(2006.01)I;H03K19/00(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/788(2006.01)I |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 11021 |
代理人 |
任岩 |
主权项 |
一种浮栅式摩擦电子学晶体管,其特征在于,包括:基材,所述基材包括:沟道层,其材料为n型硅;绝缘层,形成于沟道层之上,其材料为二氧化硅;基片层,形成于绝缘层之上,其材料为重掺n型硅;两个金属电极,分别沉积于沟道层之下两个不同位置,引出浮栅式摩擦电子学晶体管的漏极和源极;金属栅极,形成于所述基片层之上;高分子基板,形成于栅极导电层之上;金属膜,形成于高分子基板之上,通过过孔与金属栅极连接;移动摩擦件,其材料为高分子聚合物,其能够在外力作用下移动,与金属膜接触或分离。 |
地址 |
100083 北京市海淀区学院路30号天工大厦C座 |